Arc Entladung Prozess, Arc root produzéiert den thermesche kierperleche Prozess wéinst konzentréiert Energie Verëffentlechung an der Kontakt Uewerfläch an no Uewerfläch Schicht, verursaacht duerch Schmelzen an Verdampfung vun Sëlwer Kontakt Material, dëst ass Sëlwer Kontakt elektresch Ablatioun.

Am briechen aktuell kleng a kuerz arcing Zäit ënner der Bedingung vun elektresch Erosioun haaptsächlech am Material lokal Mikro Verdampfung Quell am geschmoltenem Pool.Mat der Ausdehnung vun der aktueller Erhéijunge an der Offlossquantitéit Zäit, an Arc Basis Ministère Formatioun vun geschmollte Metal am Weld Pool, a staark Verdampfung an Schmelze Metal sputtering.Zousätzlech wäert d'Arc Root Spannung d'Erhéijung vun der aktueller Dicht verursaachen, d'Bouwurzeltemperatur, wat zu enger Erhéijung vun der Waasserverdampfung a Kontaktmaterialien resultéiert.Den Afloss vun der Temperatur op de Kontaktresistenz ass méi komplizéiert.Wéi d'Temperatur eropgeet, erhéicht d'Resistivitéit vum Komposit, awer gläichzäiteg erhéicht d'Temperatur vun der Mikro-Uewerfläch Deformatioun verursaacht duerch de Réckgang vun der mechanescher Kraaft a Resistenz wäert erofgoen.Zousätzlech, wéinst der Film Uewerfläch Layer huet normalerweis eng semiconductor Charakteristiken a Membran Resistenz wäert mat Erhéijung Temperatur erofgoen, mä Temperatur kann Film Layer an der Atmosphär vun Wuesstem Prozess dramatesch beschleunegen, sou datt de Kontakt Resistenz erhéicht, Sëlwer Kontakt ass einfach ze verbrennen. .

Am kuerzfristeg Elektrizitéit, op der Kontaktfläche klëmmt d'Temperatur séier, op der anerer Säit wéinst dem Strahl an der Géigend vun der aktueller Linn béien, spontane Broch verursaacht duerch Kontakt vun der elektrescher Kraaft, verursaacht kuerze Bogen, zwee Fäll féieren fir Kontakt Schmelzen, d'Resultat ass Kontakt Schweess.Wann de Stroum duerch de Kontaktschweessstroum no beim kritesche Wäert ass, geschitt d'Kontaktfusiounsschweess zu engem gewësse Mooss.Sëlwer Kontaktmaterial a Kontaktfläch beaflosst direkt d'Schweißverhalen.Op der Uewerfläch an dënn Layer Heterogenitéit kann zu der Verbesserung vun Schweess Resultat.Sëlwer baséiert Kontakt Material mat besser Leeschtung vun der elektresch Industrie breet Opmierksamkeet, mä wéinst dem Afloss vun Arc zwangsleefeg produzéiert Sëlwer Kontakt Schweess an Arc Erosioun souguer Auswee an Echec Verhalen, eeschte Schued un d'Liewen vun der elektresch Komponente.

Wéi de Echec ze vermeiden wäert geschéien ass e wichtegen Aspekt vun der Entwécklung vun Sëlwer Kontakt Material, vill Fuerscher aus der addéieren aner Elementer wéi seelen Äerd Elementer vun seng Leeschtung ze verbesseren, a kritt e puer Leeschtungen, soll an Zukunft gemaach ginn fänkt mat d'Theorie fir d'Leeschtung vum Sëlwerbaséierte Kontakt mat elektresche Komponenten ze verbesseren.